Ergebnisse filtern
-
- 4
- 2
-
- 1
- 2
- 1
- 2
-
- 1
- 1
- 1
- 3
-
- 6
-
- 6
-
- 5
- 1
-
- 6
-
Hwang Atomic Layer Deposition for Semiconductors
2014Verlag: Springer USISBN: 978-1-4614-8053-2Medium: Buch171,19 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage -
Hwang Atomic Layer Deposition for Semiconductors
1. Auflage 2013Verlag: Springer USISBN: 978-1-4614-8054-9Medium: eBookFormat: PDF
Kopierschutz: 1 - PDF Watermark160,49 € (inkl. MwSt.)
sofort verfügbar -
Hwang Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Softcover Nachdruck of the original 1. Auflage 2014Verlag: Springer USISBN: 978-1-4899-7943-8Medium: Buch171,19 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage -
Schroeder / Hwang / Funakubo Ferroelectricity in Doped Hafnium Oxide
Materials, Properties and DevicesErscheinungsjahr 2019Verlag: Elsevier Science & TechnologyISBN: 978-0-08-102430-0Medium: Buch197,50 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage -
Schroeder / Hwang / Funakubo Ferroelectricity in Doped Hafnium Oxide
Materials, Properties and Devices2. Auflage 2025Verlag: Elsevier ScienceISBN: 978-0-443-29182-1Medium: Buch336,50 € (inkl. MwSt.)
vorbestellbar -
Schroeder / Hwang / Funakubo Ferroelectricity in Doped Hafnium Oxide
Materials, Properties and Devices1. Auflage 2019Verlag: Elsevier Science & Techn.ISBN: 978-0-08-102431-7Medium: eBookFormat: EPUB
Kopierschutz: 6 - ePub Watermark190,00 € (inkl. MwSt.)
sofort verfügbar
Ist Ihr gesuchter Titel nicht Teil der Ergebnisse? Dann nutzen Sie unser Kontaktformular
Bitte ändern Sie das Passwort