Yu / Pan | Design for Manufacturability with Advanced Lithography | E-Book | www2.sack.de
E-Book

E-Book, Englisch, 173 Seiten

Yu / Pan Design for Manufacturability with Advanced Lithography


1. Auflage 2016
ISBN: 978-3-319-20385-0
Verlag: Springer Nature Switzerland
Format: PDF
 Kopierschutz: 1 - PDF Watermark

E-Book, Englisch, 173 Seiten

ISBN: 978-3-319-20385-0
Verlag: Springer Nature Switzerland
Format: PDF
 Kopierschutz: 1 - PDF Watermark

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.

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Autoren/Hrsg.

Yu, Bei
Pan, David Z.
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