E-Book, Englisch, 144 Seiten, eBook
Reihe: NanoScience and Technology
Shim / Shin Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography
1. Auflage 2018
ISBN: 978-3-319-76294-4
Verlag: Springer International Publishing
Format: PDF
Kopierschutz: 1 - PDF Watermark
E-Book, Englisch, 144 Seiten, eBook
Reihe: NanoScience and Technology
ISBN: 978-3-319-76294-4
Verlag: Springer International Publishing
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Zielgruppe
Research
Autoren/Hrsg.
Weitere Infos & Material
Introduction.- DSAL Manufacturability.- Placement Optimization for DSAL.- Placement Optimization for MP-DSAL Compliant Layout.- Redundant Via Insertion for DSAL.