Rader | Engaged Resistance | Buch | 978-0-292-72696-3 | www2.sack.de

Buch, Englisch, 297 Seiten, Format (B × H): 220 mm x 282 mm, Gewicht: 1023 g

Reihe: The William and Bettye Nowlin Series in Art, History, and Culture of the Western Hemisphere

Rader

Engaged Resistance

American Indian Art, Literature, and Film from Alcatraz to the NMAI
Erscheinungsjahr 2011
ISBN: 978-0-292-72696-3
Verlag: University of Texas Press

American Indian Art, Literature, and Film from Alcatraz to the NMAI

Buch, Englisch, 297 Seiten, Format (B × H): 220 mm x 282 mm, Gewicht: 1023 g

Reihe: The William and Bettye Nowlin Series in Art, History, and Culture of the Western Hemisphere

ISBN: 978-0-292-72696-3
Verlag: University of Texas Press


Rader Engaged Resistance jetzt bestellen!

Autoren/Hrsg.




Ihre Fragen, Wünsche oder Anmerkungen
Vorname*
Nachname*
Ihre E-Mail-Adresse*
Kundennr.
Ihre Nachricht*
Lediglich mit * gekennzeichnete Felder sind Pflichtfelder.
Wenn Sie die im Kontaktformular eingegebenen Daten durch Klick auf den nachfolgenden Button übersenden, erklären Sie sich damit einverstanden, dass wir Ihr Angaben für die Beantwortung Ihrer Anfrage verwenden. Selbstverständlich werden Ihre Daten vertraulich behandelt und nicht an Dritte weitergegeben. Sie können der Verwendung Ihrer Daten jederzeit widersprechen. Das Datenhandling bei Sack Fachmedien erklären wir Ihnen in unserer Datenschutzerklärung.