Olbrich | Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren | Buch | 978-3-540-58511-4 | sack.de

Buch, Deutsch, Band 202, 126 Seiten, Format (B × H): 148 mm x 210 mm, Gewicht: 177 g

Reihe: IPA-IAO - Forschung und Praxis

Olbrich

Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren


1. Auflage 1994
ISBN: 978-3-540-58511-4
Verlag: Springer Berlin Heidelberg

Buch, Deutsch, Band 202, 126 Seiten, Format (B × H): 148 mm x 210 mm, Gewicht: 177 g

Reihe: IPA-IAO - Forschung und Praxis

ISBN: 978-3-540-58511-4
Verlag: Springer Berlin Heidelberg

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Zielgruppe

Research

Autoren/Hrsg.

Olbrich, Walter

Weitere Infos & Material

1 Einleitung.- 2 Entwicklungsbedarf in der PVD-Technologie.- 3 Aufgabenstellung.- 4 PVD-Verfahrenstechnologie.- 4.1 Grundlagen.- 4.2 Beschichtungstechnologien.- 4.3 Konventionelle Methoden des ionenunterstützten Abscheidens.- 4.4 Meßverfahren.- 5 Die überlagert gepulste Biasspannung.- 5.1 Aufbau.- 5.2 Grundlegende Betrachtungen zur überlagert gepulsten Biasspannung.- 6 Wirkungen der überlagert gepulsten Biasspannung auf die Prozeßbedingungen.- 6.1 Beschichtungstemperatur.- 6.2 Ionenstromdichte.- 6.3 Ionenenergie.- 7 Ergebnisse der Beschichtungsversuche.- 7.1 Abscheiderate.- 7.2 Bevorzugte Kristallorientierung.- 7.3 Mikrostruktur.- 7.4 Schichtcigenspannungen.- 7.5 Verbundfestigkeit, Haftfestigkeit.- 7.6 Mikrohärte.- 7.7 Rauheit.- 7.8 Korrosionsbeständigkeit.- 8 Anwendungsbeispiele.- 9 Bewertung der Ergebnisse.- 10 Zusammenfassung.- 11 Ausblick.- 12 Literaturverzeichnis.

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