Physical Vapor Deposition of Thin Films

1. Auflage 2000
ISBN: 978-0-471-33001-1
Verlag: Wiley

Buch, Englisch, 340 Seiten, Format (B × H): 161 mm x 242 mm, Gewicht: 608 g

Vom entspiegelten Brillenglas bis zur CD und zum Festplattenlaufwerk: Dünne Schichten mit speziellen optischen oder magnetischen Eigenschaften werden immer verbreiteter eingesetzt! Eine Methode der Herstellung solcher Schichten, die physikalische Abscheidung aus der Gasphase, bildet das zentrale Thema dieses Buches. Ebensogut als Lehrbuch wie als Nachschlagewerk für die Berufspraxis geeignet! (11/99)

Autoren/Hrsg.

Mahan, John E

Fachgebiete

• Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Halb- und Supraleitertechnologie
• Naturwissenschaften Physik Quantenphysik Atom- und Molekülphysik
• Technische Wissenschaften Verfahrenstechnik | Chemieingenieurwesen | Biotechnologie Technologie der Oberflächenbeschichtung
• Technische Wissenschaften Maschinenbau | Werkstoffkunde Produktionstechnik Fertigungstechnik
• Technische Wissenschaften Verfahrenstechnik | Chemieingenieurwesen | Biotechnologie Technologie der Lacke, Farben und Pigmente

Inhaltsverzeichnis

Introduction to Physical Vapor Deposition.

The Kinetic Theory of Gases.

Adsorption and Condensation.

Principles of High Vacuum.

Evaporation Sources.

Principles of Sputtering Discharges.

Sputtering.

Film Deposition.

Index.

Über Autor(innen)

JOHN E. MAHAN, PhD, is Professor of Electrical Engineering at Colorado State University.