Kirkby / Gwilliam / Smith | Ion Impantation Technology | Buch | 978-0-7354-0365-9 | www2.sack.de

Buch, Englisch, Band 866, 664 Seiten, Format (B × H): 210 mm x 277 mm, Gewicht: 1897 g

Reihe: AIP Conference Proceedings / Accelerators, Beams, and Instrumentations

Kirkby / Gwilliam / Smith

Ion Impantation Technology

16th International Conference on Ion Implantation Technology; IIT 2006
1. Auflage 2006
ISBN: 978-0-7354-0365-9
Verlag: AIP Press

16th International Conference on Ion Implantation Technology; IIT 2006

Buch, Englisch, Band 866, 664 Seiten, Format (B × H): 210 mm x 277 mm, Gewicht: 1897 g

Reihe: AIP Conference Proceedings / Accelerators, Beams, and Instrumentations

ISBN: 978-0-7354-0365-9
Verlag: AIP Press

This is the premier world conference for the presentation of the latest advances in ion implantation, from the fundamentals of ion-solid interactions to manufacturing implant equipment. All papers were peer-reviewed. Ion implantation is used to manufacture semiconductor devices. Materials properties are changed by bombarding wafers with atoms, which are accelerated in an ion implanter.

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Zielgruppe

Research

Autoren/Hrsg.

Kirkby, Karen J.
Gwilliam, Russell
Smith, Andy
Chivers, David

Fachgebiete

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