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Technische Wissenschaften
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Hwang Atomic Layer Deposition for Semiconductors
2014Verlag: Springer USISBN: 978-1-4614-8053-2Medium: Buch171,19 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage
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Hwang Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Softcover Nachdruck of the original 1. Auflage 2014Verlag: Springer USISBN: 978-1-4899-7943-8Medium: Buch171,19 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage
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Schroeder / Hwang / Funakubo Ferroelectricity in Doped Hafnium Oxide
Materials, Properties and DevicesErscheinungsjahr 2019Verlag: Elsevier Science & TechnologyISBN: 978-0-08-102430-0Medium: Buch197,50 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage
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Schroeder / Hwang / Funakubo Ferroelectricity in Doped Hafnium Oxide
Materials, Properties and Devices2. Auflage 2025Verlag: Elsevier ScienceISBN: 978-0-443-29182-1Medium: Buch336,50 € (inkl. MwSt.)
vorbestellbar
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