Chapman | Glow Discharge Processes | Buch | 978-0-471-07828-9 | www2.sack.de

Buch, Englisch, 432 Seiten, Format (B × H): 161 mm x 240 mm, Gewicht: 806 g

Chapman

Glow Discharge Processes

Sputtering and Plasma Etching
1. Auflage 1980
ISBN: 978-0-471-07828-9
Verlag: Wiley

Sputtering and Plasma Etching

Buch, Englisch, 432 Seiten, Format (B × H): 161 mm x 240 mm, Gewicht: 806 g

ISBN: 978-0-471-07828-9
Verlag: Wiley

Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.

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Autoren/Hrsg.

Chapman, Brian

Weitere Infos & Material

Gases.

Gas Phase Collision Processes.

Plasmas.

DC Glow Discharges.

RF Discharges.

Sputtering.

Plasma Etching.

Appendices.

Index.

Brian Chapman is the author of Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, published by Wiley.

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