Bayoumi / Elgamel | Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies | Buch | 978-0-387-25870-6 | sack.de

Buch, Englisch, 137 Seiten, Format (B × H): 160 mm x 241 mm, Gewicht: 412 g

Bayoumi / Elgamel

Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies


2006
ISBN: 978-0-387-25870-6
Verlag: Springer US

Buch, Englisch, 137 Seiten, Format (B × H): 160 mm x 241 mm, Gewicht: 412 g

ISBN: 978-0-387-25870-6
Verlag: Springer US


Presents a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect

Provides insight & intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits

Bayoumi / Elgamel Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies jetzt bestellen!

Zielgruppe


CAD engineers, IC designers, reference work for graduate students

Weitere Infos & Material


Noise Analysis and Design in Deep Submicron.- Interconnect Noise Analysis and Optimization Techniques.- Crosstalk Noise Analysis in Ultra Deep Submicrometer Technologies.- Minimum Area Shield Insertion for Inductive Noise Reduction.- Spacing Algorithms for Crosstalk Noise Reduction.- Post Layout Interconnect Optimization for Crosscoupling Noise Reduction.- 3D Integration.- EDA Industry Tools: State of the ART.



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