OEE für das Produktionsteam. Das vollständige OEE-Benutzerhandbuch

oder wie Sie die verborgene Maschine entdecken
4. korrigierte Auflage 2021
ISBN: 978-3-940775-04-7
Verlag: CETPM GmbH

Buch, Deutsch, Band 5, 176 Seiten, GB, Format (B × H): 175 mm x 248 mm, Gewicht: 620 g

Reihe: Operational Excellence

Ihr Maschinenpark ist möglicherweise doppelt so groß, als sie vermuten. Neben jeder Maschine steht nämlich oft noch eine verborgene Maschine. Die Kunst besteht darin, diese verborgenen Kapazitäten zu erkennen, sichtbar zu machen und zu nutzen. Dieses Buch liefert Ihnen den Schlüssel um die verborgenen Maschine zu entdecken: Overall Equipment Effectiveness (OEE) oder zu Deutsch Gesamtanlageneffektivität (GEFF). Das ursprünglich aus Japan kommende Instrument OEE macht Produktionsverluste sichtbar, so dass diese durch Optimierungsstrategien wie TPM (Total Productive Management), Lean Production oder Six Sigma beseitigt werden können. Das Buch ist eine grundlegende Studie, bietet sich aber auch als eine Einführung in die Grundthesen von OEE an. Es ist ein unverzichtbarer Ratgeber sowohl für Machinenbediener, Techniker und Teamleiter als auch für das Management. Das Buch beantwortet viele wichtige Fragen, z.B. Wie wird OEE berechnet? Welche Zeiten werden in der OEE berücksichtig und welche nicht? Was kann man mit OEE erreichen? Wie kann man OEE manipulieren? Kann man OEE zum Benchmarking verwenden?

Autoren/Hrsg.

Koch, Arno

May, Constantin

Weitere Mitwirkende

Turck, Martin

Oskam, Ad

May, Constantin

Über Autor(innen)

Der Autor Arno Koch ist einer der Pioniere der praktischen Umsetzung des OEE-Konzepts in ein unverzichtbares Werkzeug für den Produktionsbereich. Arno Koch ist auch Autor des OEE Toolkit (1999) und des OEE Industry Standard (2001).