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Posseme Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization
Erscheinungsjahr 2017Verlag: Elsevier Science & TechnologyISBN: 978-1-78548-096-6Medium: Buch68,50 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage -
Posseme Plasma Etching Processes for Interconnect Realization in VLS
Erscheinungsjahr 2015Verlag: Elsevier Science & TechnologyISBN: 978-1-78548-015-7Medium: Buch102,50 € (inkl. MwSt.)
Lieferzeit ca. 10 Werktage -
Posseme Plasma Etching Processes for Interconnect Realization in VLSI
1. Auflage 2015Verlag: Elsevier Science & Techn.ISBN: 978-0-08-100590-3Medium: eBookFormat: EPUB
Kopierschutz: 6 - ePub Watermark85,95 € (inkl. MwSt.)
sofort verfügbar -
Posseme Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization
1. Auflage 2017Verlag: Elsevier Science & Techn.ISBN: 978-0-08-101196-6Medium: eBookFormat: EPUB
Kopierschutz: Adobe DRM (»Systemvoraussetzungen)57,95 € (inkl. MwSt.)
sofort verfügbar
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